盛美半导体机器设备公布髙速铜电镀工艺技术性 提升 优秀封裝运用中的电镀铜速度和均一性

3月26日信息,做为半导体设备与优秀圆晶级封裝行业中领跑的机器设备供应商,盛美半导体机器设备前不久新公布了髙速铜电镀工艺技术性,该技术性可适用盛美丽的电镀设备ECPap,适用铜,镍(Ni)和锡银(SnAg)电镀工艺的互联铜突点、重走线层和锡银电镀工艺,也有密度高的扇出(HDFO)优秀封裝商品的涨缩圆晶、铜、镍、锡...