网曝ASML(阿斯麦)已基础进行 1nm 光刻技术设计方案
11月30日,日本媒体报导,因为新式新冠病毒的散播,最近日本国ITF于11月18日在日本日本东京举办了在网上新品发布会。IMEC企业CEO兼首席总裁LucVandenhove最先发布了主题风格演说,详细介绍了企业科学研究概述,他注重根据与ASML企业密不可分协作,将下一代高像素EUV光刻工艺——高NAEU...
11月30日,日本媒体报导,因为新式新冠病毒的散播,最近日本国ITF于11月18日在日本日本东京举办了在网上新品发布会。IMEC企业CEO兼首席总裁LucVandenhove最先发布了主题风格演说,详细介绍了企业科学研究概述,他注重根据与ASML企业密不可分协作,将下一代高像素EUV光刻工艺——高NAEU...